CMOSプロセス技術を使ったデジタル光増倍素子

　オランダのフィリップスは、シリコンを使った超小型で低消費電力のデジタル光増倍素子を開発、２５日米フロリダ州オーランドで開催されるＩＥＥＥ核科学シンポジウムと医療画像会議でプロトタイプを展示する。

　 今回の増倍素子は高品質のシリコン・アバランシェダイオードと低電圧ＣＭＯＳロジックを同じシリコン基板に搭載した。このため「小型化、軽量、信頼性、保守、消費電力、光検知能力、供給電圧などで従来の管状の増倍管より勝る」と同社新技術担当ロブ・バリザニー副社長は説明する。

　 同社では、用途として医療分野で使用されるポジトロン断層法（ＰＥＴ）、高エネルギー物理分野、夜間監視システムなどを挙げている。製造は、従来のＣＭＯＳプロセス技術で可能。同社ではアプリケーション面で開発パートナーを探し、今後同素子の商品化と普及に努める。